技術突破-我公司成功研制出用于PVD鍍膜的鎳磷系列靶材

日期:2021-08-25

我公司采用獨有的工藝成功研制出全球唯一的鎳磷系列靶材,制備出Ni92P8、Ni85P15、Ni80P20系列靶材。解決了制備PVD技術所需鎳磷靶材的技術難點。

鎳磷系膜是廣泛應用于印刷電路板、手機和智能手表芯片、IGBT功率電子器件以及常規鋼鐵、鋅合金、鋁合金、銅合金、陶瓷、玻璃、塑料甚至金剛石工作表面的常用鍍層,具有光澤度高、硬度高、耐磨性優異、耐腐蝕性強、優異的電磁屏蔽特性、優異的釬焊和界面過度性能。

當前鎳磷薄膜都是采用化學鍍方法鍍在工件或芯片表面,不僅存在嚴重的環保問題,而且在芯片鍍膜時其化學鍍層(含有結晶水)在后續PVD鍍鈦和銅鍍層時往往造成鍍層脫落,嚴重影響芯片制造的成品率并提高了生產成本。

與化學鍍和電鍍相比,PVD技術沉積的膜層具有致密性更高、膜層厚度更均勻的特性,特別是,PVD在芯片表面鍍鎳磷屏蔽膜可以與后續的PVD鍍銅膜、鈦膜在一道PVD工序中完成,不僅解決了對周邊環境的污染問題、不對外排放廢水和廢氣,而且產品質量大幅度提高、成本顯著降低,消除了芯片制造過程中的一道繁雜工序。

本產品將在IGBT器件、5G手機、智能手表、智能芯片等多個領域獲得廣泛應用。




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